「知的財産を利用されるリスク」への対処方法として、産業財産権の取得がありますが、このときの出願に関してもリスクが存在します。
知的財産に密接に関連するリスクとして知的財産の公開があります。
特許出願の場合には、特許権の取得とは無関係に、出願日から１年６月経過後に公開公報が発行されます。通常、出願書類には詳細な情報を記載しますので、公開公報によって知的財産の内容が公開されてしまします。そのため、知的財産を保護するためには特許出願が必要であると安易に考えないで、その知的財産の保護には特許出願が適しているか否かを検討する必要があります。
また、意匠登録出願の場合には、特許出願のような公開制度はありませんが、登録された際には登録公報が発行され、意匠の内容が公開されます。すぐに製品化されるものであれば、意匠の内容が公開されても問題はありませんが、製品化が先の意匠の場合には競合他社にデザイン傾向を知られるおそれがあります。このようなリスクに対しては、秘密意匠制度を利用することができます。秘密意匠制度を利用すれば、登録日から最大３年間意匠の内容を非公開にすることができます。
出願に関する他のリスクとしては、上述のリスクとは少し毛色が異なりますが、費用、出願時期、職務発明等に関する紛争等も考えられます。
出願および権利維持には、代理人や特許庁に対する費用が必要ですので、ビジネスモデルを考慮しながら、産業財産権を取得する知的財産を見極める必要があります。
また、産業財産権を取得するためには、その知的財産が公に知られていないことが必要ですので、社外発表等を行う前に出願する必要があります。そのため、出願に携わる部門と社外発表等を行う可能性がある部門との連携を密にする必要があります。
また、職務発明等に関する紛争を回避するためには、職務発明規定を整備する等の方策も必要となります。
